設備用途：
本鍍膜機主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真
空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。具有如下特點：
? 磁控濺射和電阻蒸發雙應用。本機采用可磁控濺射與電阻蒸發免拆卸轉換
結構，可快速實現蒸發源的轉換。
? 桌面小型一體化結構。本機對真空腔體、鍍膜電源及控制系統進行整合設
計，體積與一臺A3 打印機相仿（不包含真空機組，480x320x460mm，寬
X 高X 深）
? 單、三靶濺射。本機的磁控濺射單元裝有三支2 英寸磁控靶或一支3 英寸
磁控靶。以適應不同用戶的需求。三靶濺射單元裝有靶擋板及靶切換半開
關，并與擋板聯動。
? 高性能開關式直流濺射電源。本機配裝我公司自行研制的高性能濺射用直
流電流，由于采用開關電源所以對濺射過程中產生的弧光放電具有非常強
的抑制作用；電源還具有恒流和恒功率兩種濺射工作方式，以適用不同用
戶的需求。
? 雙蒸發源。蒸發單元中裝有兩組蒸發電極可安裝不同的蒸發源，適應相應
的鍍膜材料。
? 高穩定度恒流蒸發電源。本機配裝0.1%精度蒸發電源，并具有恒流輸出功
能，對蒸發舟能起到很好的保護作用。
? 鍍膜厚度與速率控制。本鍍膜機可選配本公司研制石英晶體膜厚控制儀，
在鍍膜過程中可對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。
? 數據記錄。鍍膜機可將采集到的鍍膜數據保存到U 盤，便于用戶分析控制(選
配)。
? 模塊化設計。本機將所有功能單設計成標準化模塊，根據用戶不的需求對
相應模塊進行組合。以達到最優化的鍍膜環境。并便于用戶維修與維護。
? 圖形化操作界面及觸屏控制。本機操作控制采用7 英寸TFT 顯示屏顯示操
作界面，觸屏操作，實現全圖形化界面，易用易懂。
二、 技術指標：
供電電壓： AC220V/2000W
濺射電源功率： 500W/600V
濺射靶規格： 2 英寸/3 支（帶擋板）或3 英寸1 支
蒸發電源功率： 1000W/5V/200A
蒸發電極有效距離： 55mm
樣品臺規格: 直徑150mm(可選配旋轉、擋板和偏壓功能)
膜厚測量精度： 0.1? 或0.01?（高精度型）
充氣流量: 50SCCM/100SCCM(兩路選配)
氣源壓力: <0.15KPa
外接真空機組: 2 升(AC220V)可選配國產擴散泵機組、國產110 機組或進口機組。
真空接口規格： KF40
極限真空度: >2.0x10-3Pa、2.0x10-4Pa
工作真空度: 3~0.5Pa（磁控）
冷卻水壓力: 0.2~0.4Kpa
使用環境溫度: <35℃
使用環境濕度: <75%(相對濕度)不結露
使用環境海拔: <1500m
外型尺寸: 480x320x460(寬x 高x 深)不包含真空泵
重量: 約47Kg 不包含真空泵
設備標準配置及價格
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序號
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設備名稱
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型號
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數量
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1
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真空機組(國產擴散泵)
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110升
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1套
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2
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真空計
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大氣~1.0x10-5 Pa
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1臺
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3
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充氣用高精度微調針閥
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?6mm卡套
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1臺
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4
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放氣閥
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?6mm卡套
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1臺
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5
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濺射直流電源（開關型）
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SI-DC500
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1臺
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6
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蒸發電源AC5V/200A
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SI-ZF1000
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1臺
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7
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系統控制器和觸屏
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自制
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1套
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8
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膜厚儀（0.1?/鋁）
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SI-TM106
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1臺
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9
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單磁控靶單元
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3英寸
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1支
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10
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蒸發舟
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有效距離>55mm
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兩套
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11
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真空腔體(石英管)
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?180mmX180mm
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1套
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12
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升降機構
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1套
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13
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機箱
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1套
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14
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抽氣管路
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1套
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15
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可調高度樣品臺
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?160mm
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1套
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16
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17
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18
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合計價格(不含稅)
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設備可選配置及價格
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序號
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設備名稱
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型號
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數量
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價格
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1
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換裝：真空機組(進口分子泵)
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1套
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換裝：國產分子泵機組
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1套
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2
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換裝：三靶磁控濺射單元（帶擋板，及靶選擇開關）
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1套
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3
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樣品臺增加自轉功能
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1套
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4
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樣品臺增加加熱功能（含溫控電源±1℃）
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室溫~500℃
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1套
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5
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樣品臺增加偏壓功能（含電源）
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0~600V/1A
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1套
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6
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換裝：RF濺射電源（自動調諧）
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SI-RF600
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1臺
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7
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換裝：高精度膜厚儀（0.01?/鋁）
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SI-TM600
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1臺
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8
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增加：流量控制器(國產)最多2臺
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50SCCM/100SCCM
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1臺
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9
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流量顯示儀
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SI-MF640
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1臺
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10
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換裝:金屬真空腔體(帶觀察窗)
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1套
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11
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增加數據存儲及導出功能
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系統結構框圖
3英寸磁控靶 鋁靶，濺射區
蒸發電極
樣品臺
