產品簡介：

本鍍膜機主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。具有如下特點：

a)     電阻式雙蒸發源。本機采用電阻式雙蒸發源結構，可快速實現蒸發源的轉換。

b)     桌面小型一體化結構。本機對真空腔體、鍍膜電源及控制系統進行整合設計，體積與一臺A3打印機相仿（不包含真空機組，440x240x260mm，寬X高X深），可放到手套箱中使用。

c)     雙蒸發源。蒸發單元中裝有兩組蒸發電極可安裝不同的蒸發源，適應相應的鍍膜材料。

d)     高穩定度恒流蒸發電源。本機配裝0.1%精度蒸發電源，并具有恒流輸出功能，對蒸發舟能起到很好的保護作用。

e)     鍍膜厚度與速率控制。本鍍膜機可選配本公司研制石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中可對鍍膜速率和膜層厚度進行控制。

f)      數據記錄。鍍膜機可將采集到的鍍膜數據保存到U盤，便于用戶分析控制(選配)。

g)     模塊化設計。本機將所有功能設計成標準化模塊，根據用戶不的需求對相應模塊進行組合。以達到最優化的鍍膜環境。并便于用戶維修與維護。

h)     圖形化操作界面及觸屏控制。本機操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實現全圖形化界面，易用易懂。

技術指標

供電電壓：         AC220V/50Hz/1500W

蒸發電源功率：     1000W/5V/200A

蒸發電極有效距離： 50mm

樣品臺規格:        直徑100mm(可旋轉)

膜厚測量精度：     0.1?或0.01?（可選配高精度型）

外接真空機組:      擴散泵機組、可選配國產110機組或進口機組。

真空接口規格：    KF40

極限真空度:        >3.0x10^-3Pa（擴散泵）、3.0x10^-4Pa（分子泵）

工作真空度:       5.0x10^-3Pa

使用環境溫度:     <35℃

使用環境濕度:     <75%(相對濕度)不結露

使用環境海拔:     <1500m

外型尺寸:         440x240x260(寬x高x深)不包含真空機組

重量:             約47Kg不包含真空機組